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表　題	掲載誌	著　者
Stability and gap states of a-IGZO TFTs fabricated with plasma-assisted reactive process: Impact of sputtering configuration and post-deposition annealing	Thin Solid Films,790,(2024),140203/1-140203/8	Kosuke Takenaka Shota Nunomura Yuji Hayashi Hibiki Komatsu Susumu Toko Hitoshi Tampo Yuichi Setsuhara
Improving bonding strength by non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted technology for A5052/PEEK direct joining	The International Journal of Advanced Manufacturing Technology,130,(2024),903-913	Kosuke Takenaka Akiya Jinda Soutaro Nakamoto Ryosuke Koyari Susumu Toko Giichiro Uchida Yuichi Setsuhara
Improving the efficiency of CO2 methanation using a combination of plasma and molecular sieves	Results in Surfaces and Interfaces,In Press,(2024),	Susumu Toko Takamasa Okumura Kunihiro Kamataki Kosuke Takenaka Kazunori Koga Masaharu Shiratani Yuichi Setsuhara
Influence of pre-treatment using non-thermal atmospheric pressure plasma jet on aluminum alloy A1050 to PEEK direct joining with hot-pressing process	The International Journal of Advanced Manufacturing Technology,130,(2024),1925-1933	Kosuke Takenaka Akiya Jinda Soutaro Nakamoto Ryosuke Koyari Susumu Toko Giichiro Uchida Yuichi Setsuhara
Direct Bonding of Stainless Steel and PEEK using Non-thermal Atmospheric Pressure Plasma-assisted Joining Technology	Journal of Manufacturing Processes,105,(2023),276-281	Kosuke Takenaka Akiya Jinda Soutaro Nakamoto Susumu Toko Giichiro Uchida Yuichi Setsuhara
プラズマ触媒作用を用いた二酸化炭素還元反応の促進に関する基礎研究	スマートプロセス学会誌,13,1(2023),31-36	都甲　将 奥村　賢直 鎌滝　晋礼 竹中　弘祐 古閑　一憲 白谷　正治 節原　裕一
Contribution of active species generated in plasma to CO2 methanation	Japanese Journal of Applied Physics,62,(2023),SL1023	Susumu Toko Taiki Haseagawa Takamasa Okumura Kunihiro Kamataki Kosuke Takenaka Kazunori Koga Masaharu Shiratani Yuichi Setsuhara
Improving the efficiency of Sabatier reaction through H2O removal with low-pressure plasma catalysis	Japanese Journal of Applied Physics,62,(2023),SL1028	Taiki Hasegawa Susumu Toko Kunihiro Kamataki Kazunori Koga Masaharu Shiratani
Analysis of oxygen-based species introduced during plasma assisted reactive processing of a-IGZO films	Japanese Journal of Applied Physics,62,(2023),SL1018/1-SL1018/5	Kosuke Takenaka Hiroyuki Hirayama Masashi Endo Susumu Toko Giichiro Uchida Akinori Ebe Yuichi Setsuhara
Analysis of residual oxygen during a-IGZO thin film formation by plasma-assisted reactive sputtering using a stable isotope	Vacuum,215,(2023),112227/1-112227/6	Kosuke Takenaka Masashi Endo Hiroyuki Hirayama Susumu Toko Giichiro Uchida Akinori Ebe Yuichi Setsuhara

表　題	会議・大会	発表者
プラズマを用いたCO2のメタン化におけるモレキュラーシーブの活用	2024年第71回応用物理学会春季学術講演会,東京都市大学世田谷キャンパス＆オンライン,(2024.03.22-2024.03.25),	都甲　将 奥村　賢直 鎌滝　晋礼 竹中　弘祐 古閑　一憲 白谷　正治 節原　裕一
プラズマ支援反応性パルスDCスパッタリングを用いたa-IGZO薄膜の特性制御	2024年第71回応用物理学会春季学術講演会,東京都市大学世田谷キャンパス＆オンライン,(2024.03.22-2024.03.25),	竹中　弘祐 上田　拓海 都甲　将 江部　明憲 節原　裕一
Formation of amorphous gallium oxide thin film transistors using plasma-assisted reactive processes	16th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2024) / 17th International Conference on Plasma Nano Technology & Science(IC-PLANTS 2024), 13th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-13),Nagoya University, Nagoya, Japan,(2024.03.03-2024.03.07),	Kosuke Takenaka Hibiki Komatsu Kazuya Ota Susumu Toko Keisuke Ide Toshio Kamiya Yuichi Setsuhara
Plasma-assisted mist chemical vapor deposition for formation of 3D nanostructured oxide thin films	16th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2024) / 17th International Conference on Plasma Nano Technology & Science(IC-PLANTS 2024), 13th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-13),Nagoya University, Nagoya, Japan,(2024.03.03-2024.03.07),	Kosuke Takenaka Susumu Toko Yuichi Setsuhara
Improved efficiency of CO2 reduction reaction using plasma catalysis by removal of oxygen atoms	41th Symposium on Plasma Processing,Tokyo Institute of Technology,(2024.01.23-2024.01.25),	S. Toko T. Okumura K. Kamataki K. Takenaka K. Koga M. Shiratani Y. Setsuhara
酸素原子の除去によるプラズマ触媒作用を用いたCO2還元反応の効率化	第41回プラズマプロセシング研究会,東京工業大学大岡山キャンパス,(2024.01.23-2024.01.25),	都甲　将 奥村　賢直 鎌滝　晋礼 竹中　弘祐 古閑　一憲 白谷　正治 節原　裕一
大気圧非平衡プラズマジェットを用いた表面処理による金属-ポリマー直接接合	第41回プラズマプロセシング研究会,東京工業大学大岡山キャンパス,(2024.01.23-2024.01.25),	竹中　弘祐 小鑓　亮輔 重森　俊祥 陣田　尭哉 中本　壮太郞 都甲　将 内田　儀一郎 節原　裕一
Experimental study on the effect of plasma-catalyst interaction on methanation reaction	97th IUVSTA Workshop on plasma-assisted conversion of gases for a sustainable future,Cerklje na Gorenjskem, Slovenia,(2023.12.17-2023.12.21),	S. Toko T. Okumura K. Kamataki K. Takenaka K. Koga M. Shiratani Y. Setsuhara
Catalytic ability of Cu and Ni in methanation with plasma catalysis	MRM2023/IUMRS-ICA2023,Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan,(2023.12.11-2023.12.16),	S. Toko T. Okumura K. Kamataki K. Takenaka K. Koga M. Shiratani Y. Setsuhara
Catalytic ability of Cu and Ni in methanation with plasma catalysis	MRM2023/IUMRS-ICA2023,Kyoto International Conference Center,(2023.12.11-2023.12.16),	S. Toko T. Okumura K. Kamataki K. Takenaka K. Koga M. Shiratani Y. Setsuhara
Non-thermal atmospheric pressure plasma technology for advanced dissimilar-materials joining: enhancing metal joining with organic materials	MRM2023/IUMRS-ICA2023,Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan,(2023.12.11-2023.12.16),	K. Takenaka R. Machida T. Bono A. Jinda S. Nakamoto R. Koyari S. Toko G. Uchida Y. Setsuhara
Fabrication of amorphous gallium oxide thin film transistors by plasma-assisted reactive processes	The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023),Winc Aichi, Nagoya, Japan,(2023.11.21-2023.11.22),	K. Takenaka T. Komatsu S. Toko Y. Setsuhara
Development of Plasma Processing Technology for Low-temperature Formation of High Quality Functional Thin Films	The 3rd International Symposium on Design & Engineering by Joint Inverse Innovation for Materials Architecture (DEJI2MA-3),International Conference Center, Waseda University, Tokyo, Japan,(2023.10.20),	Kosuke Takenaka Susumu Toko Yuichi Setsuhara Keisuke Ide Toshio Kamiya
Synergistic Effects of Molecular Sieves and Plasma for CO2 Methanation	The 3rd International Symposium on Design & Engineering by Joint Inverse Innovation for Materials Architecture (DEJI2MA-3),International Conference Center, Waseda University, Tokyo, Japan,(2023.10.20),	Yuichi Setsuhara Susumu Toko Kosuke Takenaka Masatomo Hattori
プラズマを用いた CO2 の水素還元における選択性の制御	2023年度第84回応用物理学会秋季学術講演会,オンライン,(2023.09.22),	都甲　将 奥村　賢直 鎌滝　邦弘 竹中　弘祐 古閑　一憲 白谷　正治 節原　裕一
プラズマを用いたCO2の水素還元における選択性の制御	2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会,熊本城ホール他3会場＆ハイブリッド開催,(2023.09.19-2023.09.23),	都甲　将 奥村　賢直 鎌滝　晋礼 竹中　弘祐 古閑　一憲 白谷　正治 節原　裕一
大気圧非平衡RFプラズマジェット照射が金属-有機材料異材直接接合に与える影響	2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会,熊本城ホール他3会場＆ハイブリッド開催,(2023.09.19-2023.09.23),	竹中　弘祐 中本　壮太郞 小鑓　亮輔 都甲　将 内田　儀一郎 節原　裕一
Formation of Ga-based amorphous oxide thin film transistors using plasma-assisted reactive processes	25th International Symposium on Plasma Chemistry（ISPC25）,Miyako Messe、Kyoto, Japan,(2023.05.21-2023.05.26),	Kosuke Takenaka Hibiki Komatsu Susumu Toko Akinori Ebe Yuichi Setsuhara

表　題	会議・講演会	講演者
Plasma-assisted Mist CVD for Formation of 3D Nanostructured Zinc Oxide Thin Films	Joint Conference of Global Plasma Forum and 24th Workshop on Fine Particle Plasmas (WFPP24),Aomori, Japan,(2023.12.15-2023.12.18)	Kosuke Takenaka Susumu Toko Yuichi Setsuhara
Reactivity-Control Plasma Processes for Low-Temperature Formation of High-Quality Oxide Thin-Film Transistors	International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS，(THERMEC‘2023),VIENNA, AUSTRIA,(2023.07.03-2023.07.07)	Yuichi Setsuhara Kosuke Takenaka Akinori Ebe

表　題	掲載誌	著　者
プラズマ支援反応性プロセスを用いた酸化物半導体薄膜形成	真空ジャーナル,186,(2023),10-15	竹中　弘祐 節原　裕一 江部　明憲